A novel diode string triggered gated-Pi N junction device for electrostatic discharge protection in 65-nm CMOS technology

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摘要 Anoveldiodestring-triggeredgated-PiNjunctiondevice,whichisfabricatedinastandard65-nmcomplementarymetal-oxidesemiconductor(CMOS)technology,isproposedinthispaper.Anembeddedgated-PiNjunctionstructureisemployedtoreducethediodestringleakagecurrentto13nA/μminatemperaturerangefrom25°Cto85°C.Toprovidetheeffectiveelectrostaticdischarge(ESD)protectioninmulti-voltagepowersupply,thetriggeringvoltageofthenoveldevicecanbeadjustedthroughredistributingparasiticresistanceinsteadofchangingthestackeddiodenumber.
机构地区 不详
出处 《中国物理B:英文版》 2015年10期
出版日期 2015年10月20日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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