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“一百纳米高密度等离子体刻蚀机和大角度离子注入机”项目验收
“一百纳米高密度等离子体刻蚀机和大角度离子注入机”项目验收
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摘要
国家863计划集成电路制造装备重大专项“100nm高密度等离子体刻蚀机和大角度离子注入机”,9月28日在北京通过了科技部与北京市组织的项目验收。这是我国国产主流集成电路核心设备产品第一次实现销售,标志着我国集成电路制造核心装备研发取得了重大突破,在该领域自主创新和产业化上又迈出了可喜的一步。
DOI
lj1e6102dv/472692
作者
机构地区
不详
出处
《纳米科技》
2006年5期
关键词
高密度等离子体
离子注入机
项目验收
大角度
刻蚀机
集成电路制造
分类
[一般工业技术][材料科学与工程]
出版日期
2006年05月15日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
纳米科技
2006年5期
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高密度等离子体
离子注入机
项目验收
大角度
刻蚀机
集成电路制造
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