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集成电路制造工艺技术现状与发展趋势

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摘要摘要：集成电路是电子工业和信息社会的基础.金属氧化物半导体结构的场效应晶体管是构成当前集成电路的部件的基本结构，目前绝大多数集成电路都是基于金属氧化物半导体等互补器件。自集成电路进入测量生产以来，提高集成电路性能最重要的手段就是尺寸微收缩。

DOI g4qkeor748/5834124

作者黄引驰

机构地区身份证：3302811990****0096

出处《当代电力文化》 2021年33期

关键词集成电路制造技术发展

分类 [电气工程][电力系统及自动化]

出版日期 2022年04月19日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）