摘要
Ta2O5电影被常规电子横梁蒸发方法在熔化硅石底层上扔。由在不同温度退火，非结晶、六角形、斜方晶的阶段的Ta2O5电影被获得并且由X光证实衍射计(XRD)结果。X光检查光电子光谱学(XPS)分析证明所有这些电影的化学作文是stoichiometry。非结晶的Ta2O5电影完成最高的激光，这被发现在355或1064nm的导致的损坏阀值(LIDT)任何一个，由六角形的阶段和最后斜方晶的阶段列在后面。当前者显示出一个一致熔化区域，当后者在至少一个缺点点上被集中时，在355和1064nm的损坏形态学是不同的，它被不同损坏机制导致。在1064nm的LIDT的减少被归因于增加结构的缺点，当时在355nm由于增加的联合效果结构的缺点和减少的乐队差距精力。[从作者抽象]
出版日期
2008年09月19日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
