简介：互连应力测试（IST）是在九十年代以后迅速发展起来的，采用全新的数据分析方法测量通孔镀层和印制电路互连可靠性的一种重要测试技术。目前该方法能够有效分析由于热应力温度变化提供电镀通孔可靠性的。这种IST测试和数据分析方法可以深入了解电镀通孔在装配期间、无铅焊料熔融过程中对产品的热冲击的破坏，以及在设定工作的范围内维持产品可靠性的时间。
简介：论述了制造多层电路板时,通孔上晕圈产生的原因主要是氧化铜膜的溶解,通过对氧化铜膜的还原、腐蚀和化学镀铜等方法可以抑制晕圈的产生.
简介：AMD与富士通有限公司(FujitsuLimited)近日宣布双方已就成立一家新的闪存公司签订意向书。新公司的注册名称为FASLLLC,总部将设于美国加州
简介：概述了挠性和刚一挠性板的前处理工艺。等离子态去钻污费时和成本高，采用改进的前处理的化学镀铜可以满足挠性印制电路（FPC）大生产的要求。
简介：概述了利用激光辅助植晶（LAS）机理形成PCB的高厚径比盲微导通孔的质量和可靠性，可以比得上传统的化学镀技术。LAS是一种有前途的替代技术。
通孔镀铜寿命的热应力分析
印制板通孔上晕圈产生的原因
AMD与富士通宣布成立新的闪存公司
可挠性PCB和电镀通孔：挑战与解决方法
利用激光辅助植晶机理形成PCB的高厚径比盲微导通孔的质量和可靠性
