简介：摘要扩散炉是半导体、光伏生产线前道工序的最重要工艺设备，扩散工艺的主要用途是将元素磷或硼扩散入硅片，从而改变和控制硅片内杂质的类型、浓度和分布，以便建立起不同的电特性区域。
常压扩散炉高产能均匀性的调整分析庞风英
