简介:俄国立研究型技术大学(NUSTMISIS)莫斯科钢铁冶金学院与北京交通大学、澳大利亚昆士兰科技大学和日本国立材料科学研究所的科学家一起,制成厚度为一个分子的氮化硼新型半导体材料。
新型半导体材料仅一个分子厚