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一般工业技术
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Photoelectrochemical behaviour of Cdln2S4 films deposited by pulse electrodeposition using non-aqueous electrolyte

作者： Chockalingam JAYANTHI;Swaminathan DHANAPANDIAN;Kollegal Ramakrishna MURALI
学科：一般工业技术 > 材料科学与工程
创建时间：2013-04-14
出处：《材料科学前沿：英文版》 2013年第4期

简介：
标签：脉冲电沉积薄膜沉积电解质膜电化学行为非水 X射线衍射分析

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基于高斯光束下的Cu2S量子点表面等离激元共振模拟研究

简介：应用COMSOLMultiphysics4．3a模拟软件，结合Maxwell电磁场理论，首先理论推导高斯光束的产生原理，得出基于Kretschmann棱镜耦合系统下的Cu2S量子点溶液，模拟进行852nm稳态激光器的高斯光束照射时产生表面等离激元（SPR），改变量子点的基本属性以及改变入射光角度，模拟出在不同条件下Cu2S量子点产生SPR信号的情况，为Cu2S量子点在SPR传感方面的应用提供了理论依据和参考。
标签： COMSOL MULTIPHYSICS Cu2S量子点表面等离激元共振高斯光束

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2.5D-SiO2f/（SiO2＋硅树脂）透波材料的制备及其性能研究

简介：采用先驱体浸渍裂解工艺制备了2.5D-SiO2f/（SiO2＋硅树脂）透波材料,并对其力学性能、耐环境性能和耐大功率微波辐照性能进行了研究.结果表明,环境试验前后,2.5D-SiO2f/（SiO2＋硅树脂）透波材料的力学性能和介电性能变化均较小.采用功率密度为60W/cm2的微波考核1h后,透波材料表面无变化,表面温升仅为82℃.
标签： 2 5D-SiO2f (SiO2+硅树脂) 透波材料弯曲强度介电性能

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