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408 个结果
  • 简介:通过对气化炉炉渣试样的碱熔、酸洗及干扰离子的掩蔽,采用不同的方法对样品处理进行对照试验,并进行了回收率的验证,从而得出了用原子吸收光谱测定气化炉炉渣中的铬含量的简便、准确的方法。

  • 标签: 气化炉 炉渣 铬含量 原子吸收光谱法 标准溶液
  • 简介:介绍了在等离子环境中将氯化氢转化为氯气与氢气的工艺:(1)将氯化氢引进等离子环境中,该环境应至少能将一部分氯化氢进行转化;(2)冷却反应产物,形成含氯气与氢气的气体混合物;(3)回收气体产物混合物。

  • 标签: 氯化氢 氯气 氢气 生产工艺 等离子体法
  • 简介:本发明涉及一种用等离子法制备纳米氮杂氧化钛的方法。该方法是:将纳米二氧化钛放入微波等离子发生装置中,抽真空后,通氮气至微波等离子发生装置内并产生氮等离子处理纳米二氧化钛,来制备纳米氮杂氧化钛,制得的纳米氮杂氧化钛具有比纳米二氧化钛更好的光催化性能。该方法的特点是反应时间短、反应温度低、无需催化剂。

  • 标签: 纳米二氧化钛 等离子体法 氮杂 制备 种用 微波等离子体
  • 简介:本文综述了利用等离子技术喷涂高性能陶瓷涂层的技术特点和应用情况以及几种热点陶瓷涂层的特性,指出了等离子技术喷涂陶瓷涂层中存在的问题,分析了可行的解决方法。

  • 标签: 等离子喷涂 陶瓷涂层 综述 等离子技术
  • 简介:本文介绍了一种用于镍电极片式叠层陶瓷电容器(MLCC)承烧的等离子喷涂承烧板,并详细介绍了该产品生产的工艺过程,以及阐述了这种等离子喷涂承烧板性能、应用及市场化情况。

  • 标签: 等离子喷涂 承烧板 刚玉-莫来石 钇稳定氧化锆 研究
  • 简介:外壳是球上最受机械应力的部分,其上的印痕应该具有耐久性。现代足球的外壳由多层或多个部分组成,比如,由五边形或六边形的区块组成塑料的层合结构,然后是泡沫橡胶、乳胶和织物层。这些层是被粘接或者被压在一起,然后再包覆到橡胶囊上。在将各个部分缝合在一起之前,需要在平面的塑料上印刷(通常为丝网印刷)制造商的图案元素或者采用复合膜进行装饰,之后一般会喷涂上透明的保护漆膜以形成最外层的膜,这样就确保了印记的附着力并防止了油墨的脱落。

  • 标签: 数码印刷 塑料表面 等离子 紫外 球形 机械应力
  • 简介:介绍了数控等离子火焰切割机水下切割系统的作用,由于生产需要承建新的水下切割系统,根据水下切割系统的工作原理拟订了设计方案,对设计要点、操作方法和效果进行了详细叙述。

  • 标签: 数控等离子火焰切割机 水下切割系统 技术改造
  • 简介:等离子喷涂液相合成法是一项生产纳米材料的新技术,这项新技术利用工业上的等离子喷涂系统在大气环境中生产纳米粉末,用简单的平行电极静电收集器可进行粉末的收集。研究表明利用等离子的高温、高温度梯度的特性,可使钛酸丁酯发生裂解而制得纳米TiO2粉末。等离子喷涂合成法是一个简单的工艺过程,

  • 标签: 等离子喷涂 技术 纳米颗粒 TI02 纳米TIO2粉末 液相合成法
  • 简介:本文采用等离子喷涂的方法制备了纳米WC—Co涂层以及超细WC—Co涂层,研究了涂层的高温摩擦磨损性能及失效机理。研究表明,在高温磨损情况下,纳米涂层的综合耐磨损性能明显优于超细涂层。超细涂层和纳米涂层的磨损机理不同,超细涂层以脆性断裂和粘着磨损为主,伴随有磨粒磨损,纳米涂层以韧性断裂和磨粒磨损为主,伴随有粘着磨损。

  • 标签: 纳米涂层 高温磨损 WC—Co
  • 简介:概述为了更好地了解铝燃烧剂的烟花技术成分的点火情况,我们做了一系列的试验,以检测不同成分变化对火花敏感度的影响。静电型火花往往是与烟花原料的生产厂家有关的因素,作此研究的目的是想了解一个普通的人产生的能量等级(约10-2~1.5×10-2J)是否足够点燃铝燃烧剂。在此研究中,经过对烟花药剂的测试,来确定氧化剂的变化而产生的影响、铝与氧化剂的比率不同而产生的影响、氧化剂的两种微粒的大小产生的影响,以及增加硫对混合物的火花敏感度产生的影响。试验中使用了两种氧化剂硝酸钾和高氯酸钾,且处于四种不同重量比率,这些混合物的火花敏感度是由按照矿产局火花放射器具而仿制的设备测试的。通过使用不同的铝的样品,占七成的高氯酸钾和占三成的铝的混合物的火花敏感度也得到了测试。为了了解微粒的大小对这些混合物的感度的影响试验中使用的氧化剂都经过了筛子的筛选,中型(大于270目、小于200目)和小型(小于325目)尺寸的微粒被分别与金属燃料相混合。按照最初的对这些混合物的火花敏感度测试,再在这些混合物中加入10%的硫(按重量计),以确定这些附加燃料对混合物的静电感度的影响。试验结果证明对氧化剂的改变在一定程度上会影响铝燃烧物的敏感度,加入硫后将会对某些药剂的敏感度产生较大?

  • 标签: 静电感度 氧化剂 敏感度 燃烧剂 高氯酸钾 金属燃料
  • 简介:美国专利US2004,214,934(2004.10.28)10pp题述紫外线吸收剂化学结构通式为图Ⅰ所示,其中R1~R5可以相同也可以不同,可为C1-20烷基、卤素、羧基、氢、氰基、硫酰基、芳基、氮、C1-20烷氧基等,X为氢或氰基,C(O)OR,Y为氢、氰基或C(O)OR。

  • 标签: 紫外线吸收剂 着色 化学结构通式 美国专利 氰基 烷氧基