简介:用C3H6作为碳源气,Ar作为稀释气体和载气,TaCl5为钽源,采用化学气相沉积法(chemicalvapordeposition,CVD)在高纯石墨表面制备TaC涂层。采用X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)等对涂层进行表征,研究1000℃下稀释气体(Ar)流量对TaC涂层成分、织构及表面形貌的影响。结果表明:随着稀释气体流量增大,表面均匀性和光滑度提高,晶粒尺寸减小,晶体择优取向降低,沉积速率减小,涂层中C含量增多。当稀释气体流量为100mL/min时,TaC涂层晶粒尺寸与沉积速率分别为32.5nm和0.60μm/h;而当稀释气体流量增大到600mL/min时,涂层晶粒尺寸与沉积速率分别下降到21nm和0.25μm/h。
简介:酒钢集团宏兴股份公司碳钢薄板厂转炉公用系统中运用ControlNet光纤中继器来扩展远程I/O,进行设备控制。通过该中继系统引起的一起设备故障发现模块手册上关于故障描述及处理建议的相关信息较少,未能起到较强的指导意义,因此搭建实验平台进行测试,以便找寻更多用于故障恢复的相关信息。