简介：低压化学气相淀积(LPCVD)设备主要为微电子机械系统(MEMS)在硅基片上淀积Si3N4、Poly-Si(多晶硅)、SiO2薄膜。承担形成微传感器和微执行器的抗蚀层、结构层和牺牲层的加工任务。是MEMS技术中的主要生产工序之一，也可以用于集成电路钝化膜制备。

简介：纳米金刚石薄膜的沉积实验在自行研制的热丝化学气相沉积系统上完成。基体为金刚石微粉研磨和酸蚀后的硬质合金片，反应气体为CH4和H2混合气，V（CH4）：V（H2）=1％-4％，基体温度800-1000℃，沉积时气压为0．8～2．0kPa。SEM观察表明，影响金刚石膜的表面形貌及粗糙度的关键参量是基体温度、反应气压及含炭气体的浓度，这些参数都会影响到薄膜的纯度、结晶习性和晶面完整性。沉积纳米金刚石薄膜工艺是通过高密度形核以及抑制金刚石膜在沉积过程中的晶粒长大来实现的。

简介：在气轨实验中，采用Z80单板机设计单板数字毫秒仪，精确测量在线时间。

简介：根据深盆气藏形成和保存必须满足的力平衡约束和孔隙度约束条件,以及误差界约束,建立了计算深盆气藏在给定地史时刻平衡深度的非线性规划模型.基于地史数值模拟方法,通过引入分布预测目标区域在给定地史时刻深盆气藏分布矩阵,对网络控制节点逐点解该非线性规划问题,可实现以深盆气藏理论最大分布范围的动态预测.

简介：以ＴｉＣ１４为源物质采用常压化学气相沉积法制备了ＴｉＯ２薄膜。用紫外光谱测定了膜的透过率，进而计算出折光率、消光系数、光学带隙能等光学参数。结果发现，在不同气流量、沉积温度为１００～２５０℃的条件下制备的ＴｉＯ２膜，其折射率在２．１６～２．８２范围内，消光系数在０．０４×１０－３～６．７０×１０－３范围内，光学带隙能在２．８～３．０８ｅＶ范围内。在光催化作用下，ＴｉＯ２膜用于处理苯酚溶液，苯酚的转化率高达５４．０５％。关键词##4化学气相沉积（ＣＶＤ）;沉积率;折光率;消光系数;光催化更多还原

简介：Ｎｉ／Ａｌ２Ｏ３催化剂上甲烷部分氧化制合成气反应是在固定床流动反应装置上进行的。考察了催化剂的床层温度、反应压力、空速和原料气配比对催化剂积炭产生的影响。实验结果表明，积炭速率随催化剂床层温度的升高而降低，当温度低于７０℃时，积炭速率骤增：积炭总是发生在催化剂床层的下段；若空速超过３．０×１０５ｈ－１，积炭速率随空速增加而明显降低。从ＦＴＩＲ实验结果可知，吸附在Ｎｉ／Ａｌ２Ｏ３催化剂表面上的ＣＯ，一部分歧化生成了ＣＯ２和Ｃ。综上所述，催化剂表面积炭主要来源于以下两个反应：２ＣＯ→Ｃ＋ＣＯ２，ＣＯ＋Ｈ２　＝Ｃ＋Ｈ２Ｏ

简介：工件如图1所示，材料为1Crl8Ni9Ti，焊接结构件。加工的主要难点是工件内孔深且为盲孔，内孔底部为球面，几何精度要求高，薄壁，刚性差，容易引起变形。

简介：本文从分析双T网络虚地输出端着手，借助串／并联等效变换，给出双T网络的电压／电流相量图和阻抗图；引入对称化处理概念；界定了双T网络的实际输入阻抗；建立了完备的阻抗方程组，并做了按指定输入阻抗设计电路的示范。

简介：时尚是神秘与暧昧的，炫目的T台光影中，男人对于时尚的新奇和女人博爱的追随，

简介：利用脉冲激光沉积装置在钼筒上沉积镧氧膜,通过俄歇能谱仪确定其表面成分并进行定量分析,结合离子刻蚀对薄膜进行剖面分析,实验结果表明,除去薄膜表面少许C,O吸附外,本制备方法污染小,定量分析证明薄膜为富镧的镧氧薄膜。

简介：一本文提出了用ＥＰＬＤ芯片实现高分辨率的双边沿鉴频鉴相器，从而解决了锁相伺服系统的高精度问题。

简介：文章介绍一种在线电阻测量用的新型多用电桥

简介：对黑曲霉木聚糖酶同工酶的酶学性质及圆二色谱(CD)进行了研究.结果表明,黑曲霉木聚糖酶粗酶液经离心、超滤及SephadexG-75凝胶层析后,分离得到了两个黑曲霉木聚糖酶同工酶组分XⅠ,XⅡ,其最适反应温度均为45℃～55℃,最佳反应pH值均为4.8～5.5,SDS-PAGE法测得XⅠ,XⅡ的相对分子质量分别为2.2×104和4.0×104.XⅠ与XⅡ的CD光谱表明,XⅠ,XⅡ分别在218和215nm处有最大负峰,说明β-折叠结构是组分XⅠ,XⅡ具有木聚糖酶活性的主要结构,也是它们发挥催化功能的结构基础.

简介：O484.12003021228溶胶-凝胶TiO2制备透明激光全息薄膜的研究=StudyingofTiO2transparentcoatingbysol-gelwithlaserhologram[刊,中]/倪星元（同济大学波耳固体物理研究所.上海（200092））,邓忠生…//材料科学与工程.—2002,20（2）.—217-219,213采用溶胶-凝胶方法在普通透明塑料基底上制备具有纳米结构的TiO2薄胶,用激光微雕模版将全息图案复合在该薄膜上制成透明激光全息薄膜。选择酸性催化TiO2

简介：O484.12003053763紫外光电材料ZnO的反应溅射制备及研究=CharacterisationofDCreactivemagnetronsputteredZnOfilms[刊,中]/杨晓东(西北大学光子学与光子技术研究所.陕西,西安(710069)),张景文…//光子学报.-2002,31(10).-1216-1219采用直流反应溅射法分别在Si(111),Si(001),及K4玻璃衬底上制备ZnO薄膜,研究了氧氩比、衬底温度以及退火处理对晶体结晶质量的影响,发现生长过程中的退

简介：O484.12000031960一种碳涂覆光纤碳膜厚度在线控制技术=Anonlinecontinuousmoniforingtechniqueofcarbonhermeticcoatingthickness[刊,中]/仇斌(深圳宝兴电线电缆制造有限公司.广东,深圳(518000))//应用光学.—1999,20(3).—40-41为了控制长长度碳涂覆光纤和对光纤碳膜厚度进行在线监控,开发了一种碳涂覆光纤碳膜厚度在线监控技术。试验结果表明,该技术是行之有效的。图2参4(吴淑珍)TB432000031961阳极氧化法制备多孔氧化铝膜的研究=Researchon

简介：O484.12002042861Si基的RICBD法生长GaN薄膜=GaNfilmsgrownbyRICBDonSisubstrates[刊,中]/蔡先体,黄启俊,黄浩,孟宪权,郭怀喜,范湘军(武汉大学物理系.湖北,武汉(430072))∥半导体光电.—2001,22(1).—26-30讨论了反应离化团簇束沉积(RICBD)方法的原理

简介：由于终端光学组件在整个金工装配过程中必须做到洁净无损运输，现场洁净无损精确安装，才能达到实验所需要求。终端光学组件的重量800kg，目前安装到靶室的终端光学组件共有8套，所以整个终端光学组件精密装校时间长，危险性大。

简介：环氧树脂灌注料开裂对电子产品的影响是致命的，开裂的原因：一是环氧树脂灌注料内部的缺陷，断裂力学-裂纹理论认为，任何材料表面或内部都存在着不同程度的缺陷，如气孔、杂质、相界和细微的裂纹等。环氧灌注料是多种成分的混合物，在混合过程中带入杂质，形成气泡，是不可避免的，加之真空脱泡不彻底，都会造成材料体系内的缺陷。另外，作为灌封材料主要成分的环氧树脂其内聚力大，固化过程中很容易形成应力集中，尤其集中在灌注料与埋入的器件接触界面、尖角及弯曲部位，造成极细微的裂纹。这些裂纹受外界条件影响时不断扩大，从而导致材料开裂、失效。

简介：针对卫星等特殊产品，采用竖立方式进行静平衡测量与校正是产品装配质量检验的重要环节。通常采用的摆架硬支承测力式结构，虽然可以达到很高精度，但侧面临滚动球轴承的磨损会影响精度，皮带张力和电机转速的波动构成同频或近频干扰，转子质量的增加导致摆架结构日益复杂等问题。气体静压支承具备粘滞系数极低、摩擦力矩极小、环保、结构简单等优势，研究将气体静压支承方法应用于立式转子的静平衡测量，取得了令人满意的结果。