简介：Au/Al_2O_3/Al金属/绝缘体/金属连接(MIMJ)和Au/SiO_2/Simetal/insulator/Si连接(MISJ)成功地被构造了。这些连接的轻排放被表面电浆子电磁声子(SPP)在表面粗糙下面调停。从MISJ的轻排放从MIMJ比那更一致、稳定。MISJ的轻力量比MIMJ的高是大约2份～3订单。MISJ的轻排放光谱特别被分析。在光谱，有一座主要山峰在610nm～6的波长定位了40nm，它主要由于有在Au/air和Au/SiO_2接口的表面粗糙的SPP的夫妇。在更短的波长区域位于光谱的一座弱山峰也被发现，它被doped-Si血浆摆动的直接放射引起。

简介：Afast-speedpulsedetectorbasedonn-typeSi-Schottkydiodemountedinthewaveguideisinvestigated.Therelationofthefast-speedpulsedetectorbetweenresponsetimeand3dBbandwidthisanalyzed.Byadoptingthetunablecircuit,thematchedbandwidthisachievedaswideaspossible.Experimentalresultsshowthatthepulseresponsetimeofthedetectorislessthan150pswithinrandomcarriersignal500MHzbandwidthrangebetween35GHzto39GHzviatuningcircuit.Thedetectorisveryeasytooperatebecauseitdoesnotneedbiascurrentorsynch-pulsesource.

简介：镓氮化物的大数量(轧)nanowires经由Ga2O3电影在一个石英试管在950点在氧化的铝层上扔了的ammoniating被准备了。当水晶的wurtzite由X光检查衍射，X光检查光电子spectrometry扫描电子显微镜和精选区域的电子衍射轧了，nanowires被证实了。传播电子显微镜(TEM)和扫描电子显微镜学(SEM)表明nanowires非结晶、不规则，与从30nm到直到十微米的80nm和长度的直径。精选区域的电子衍射显示有六角形的wurtzite结构的nanowire是单身者水晶。生长机制简短被讨论。

简介：评述了30年前第一批用中子嬗变掺杂硅单晶(即无条纹硅)制造高电压、大电流整流管和晶闸管的报道。由此介绍硅材料的中子嬗变掺杂技术原理、发展进程，指出NTD硅的实用化成为电力半导体器件向大电流(大直径)、高电压方向发展的一个重要突破口。

简介：UsingdoublecrystalX-raysdiffraction(DCXRD)andatomicforcemicroscopy(AFM),theresultsofGexSi1-xgrownUHV/CVDfromSi2H6andSiH4areanalyzedandcompared.Adsorbatescanmigratetotheenergy-favoringpositionduetotheslowgrowthratefromSiH4.Inthiscase,aSibufferthatisolatestheeffectofsubstrateonepilayercouldnotbegrown,whichresultsinapitpenetratingintoepilayerandbuffer.TheFWHMis0.055°inDCXRDfromSiH4.Thepresenceofdiffractionfringesisanindicationofanexcellentcrystallinequality,TheroughnessofthesurfaceisimprovedifgrownbySi2H6:however,thecrystalqualityoftheGex2Si1-xmaterialbecameworsethanthatfromSiH4duetomuchlargergrowthratefromSi2H6.ThecontentofGeisobtainedfromDCXRD,whichindicatesthegrowthratefromSi2H6islargest,thenGeH4andthatfromSiH4isleast.