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  • 简介:1超高纯水溶性胶体二氧化硅一半导体生产中,用作化学机械抛光(CMP)的抛光剂日本Fusochemical公司开发成功一种水溶性超高纯胶体二氧化硅.其二氧化硅含量较现有产品高出3倍。到目前为止.水溶性胶体二氧化硅的最高含量12%.该公司通过优化溶胶凝胶合成工艺.使其二氧化硅含量高达40%。该公司合成的超高纯胶体二氧化硅占有世界硅片抛光剂市场份额的80%。

  • 标签: 超高纯 chemical公司 纳米材料 化学机械抛光(CMP) 胶体二氧化硅 二氧化硅含量