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2021年08期
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高真空蒸发镀膜设备及检漏
高真空蒸发镀膜设备及检漏
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摘要
摘要:半导体金属化工艺中,要求金属层光泽致密,无氧化,无损伤,接触好,粘附牢,膜厚可控,均匀性好等等,所以不管是电子束蒸发台还是磁控溅射台等等,都要求设备本身提供一个高真空的镀膜环境。
DOI
34g7m9ro49/5327679
作者
王宜琪
机构地区
尼西半导体科技(上海)有限公司201614
出处
《科学与技术》
2021年8期
关键词
真空镀膜
真空
蒸发
半导体
检漏。
分类
[建筑科学][建筑技术科学]
出版日期
2021年07月08日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
科学与技术
2021年8期
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真空镀膜
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