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关于高真空多靶磁控溅射镀膜设备的研制

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摘要 [摘要]高真空多靶的磁控溅射镀膜设备，其主要应用于磁性金属各种合金薄膜制备当中，以基底部位旋转溅射及共聚焦等方式为主，将150*150mm各类合金薄膜有效制备出来。为充分把握该设备具体研制情况，便于今后更好地推广及使用该设备，本文主要探讨高真空多靶的磁控溅射镀膜设备研制，期望可以为后续更多技术工作者和研究学者对此类课题的实践研究提供有价值的指导或者参考。

DOI 34gxm2e0d9/6652907

作者刘贵

机构地区东莞市华升真空镀膜科技有限公司广东东莞 523000

出处《中国电业与能源》 2022年14期

关键词 []镀膜设备多靶高真空磁控溅射研制

分类 [][]

出版日期 2022年12月08日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）