SiC材料点缺陷研究进展

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摘要 摘要:碳化硅(SiC)作为一种重要的半导体材料,具有优异的物理性能和热稳定性,因此在功率电子器件、光电器件等领域具有广泛的应用。然而,SiC晶体中存在多种类型的点缺陷,如杂质原子、空位、晶格位错等,这些点缺陷对SiC材料的电学和光学性能产生重要影响。本论文主要综述了近年来SiC点缺陷研究的进展,包括点缺陷的形成机制、电学性质、光学性质以及对器件性能的影响等方面,旨在为SiC材料研究和应用提供参考。
作者 刘淳
出处 《科技新时代》 2024年9期
出版日期 2024年07月12日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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