用低压化学气相沉积法制备TiO2薄膜。研究表明,水的分压、沉积温度、基片材料均对沉积速率有影响。在硅片上镀膜,沉积温度相同而退火温度不同,则薄膜结构亦不同。当退火温度高于85℃时,薄膜为纯金红石薄膜。更多还原
能源化学:英文版
2001年3期