基于专利审查视角的权利要求撰写策略初探

基于专利审查视角的权利要求撰写策略初探

尹文杰

国家知识产权局专利局专利审查协作江苏中心

摘要：本文基于实际审查案例，从专利审查的角度来理解权利要求的撰写，并分析不足与改进，以期提供一种不同的角度来确定权利要求的合理保护范围和提高权利要求的撰写质量。

关键词：专利审查 权利要求 保护范围 撰写策略

一．引言

在中共中央国务院印发的《知识产权强国建设纲要（2021-2035年）》中指出，到2035年，我国知识产权综合竞争力跻身世界前列，知识产权制度系统完备，知识产权促进创新创业蓬勃发展，全社会知识产权文化自觉基本形成，全方位、多层次参与知识产权全球治理的国际合作格局基本形成，中国特色、世界水平的知识产权强国基本建成。专利作为知识产权的重要组成部分，权利要求的撰写策略可以影响权利要求的保护范围及专利质量，并进而作为评判专利价值、专利分析、专利运营、产品的市场投放的依托与基础。

二．现有常见专利权利要求撰写策略

目前，申请人常根据权利要求的保护范围以及法律要求等多要素综合考量来进行权利要求的撰写，以下将根据实际审查案例来理解权利要求的撰写，并分析不足与改进。

三．案例思考

1.案例一

案例一的发明名称为家用空气质量检测装置，申请人为邦达诚科技（常州）有限公司，其核心发明点为通过所述壳体上具有入风口和出风口，所述入风口和出风口上分别设置有一个阻隔阀，二个所述阻隔阀关闭时所述壳体内形成暗室，采用光散射法检测，对空气质量实现实时检测。也就是说阻隔阀设置形成暗室来进行光散射法检测。初步检索后发现，阻隔阀设置形成暗室是本申请相对于现有技术的实际区别。

在对“阻隔阀设置形成暗室”区别的进一步检索过程中，获得了一篇对比文件（GB2474235A），其公开了用于流体颗粒的检测仪器，壳体上具有入风口和出风口，所述入风口和出风口上分别设置一个端帽4，所述端帽不限制气流但限制光亮（参见说明书第9页1-10行及说明书附图）。

对说明书中阻隔阀和暗室的具体说明进行查找，其具体记载为“在阻隔阀2关闭前，排风扇8可以用于对检测室进行清洁，减少陶瓷层上附着的分成，当阻隔阀2关闭形成暗室时，排风扇8使检测室中的充分运动，形成稳定的检测环境，提高检测结果的准确性”（参见说明书第16段），可见说明书中对于阻隔阀和暗室并没有明确的定义。基于对字典的查找,发现阀的定义为流体系统中，用来控制流体的方向、压力、流量的装置，并查找到光阀的定义为一种可以反射光或允许光通过快门的装置，光阀可以是液晶或纳米机械装置。也就是说字典中阀的定义未包括常见的光阀定义，其仅针对流体进行了阀门的定义，可见阀的定义实际上不仅包括流体阀也包括光阀，在此基础上，对比文件所记载的所述端帽不限制气流但限制光亮对应于“当使端帽阻挡时形成暗室，不阻挡时则不会形成暗室”，所述端帽设置实质上是一种开闭放置进行光亮阻挡的设置，即光阀设置，本领域技术人员可选择合适的开闭光亮阻挡部件以形成暗室，如阻隔阀。

在针对一通的答复中，申请人指出“阻隔阀的作用在于阻挡光线进入管道和阻挡气流进入管道中，当阻隔阀关闭时阻挡光线进入管道形成暗室是其一个效果，而阻挡气流进入管道形成稳定的检测环境则是它另一个效果”；对于该意见陈述，审查员认为“从权利要求1的限定内容并参考本申请的说明书第16段的记载“管道3中设有排风扇8，在阻隔阀2关闭前，排风扇8可以用于对检测室进行清洁，减少陶瓷层上附着的成分，当阻隔阀2关闭形成暗室时，排风扇8使检测室中的充分运动，形成稳定的检测环境，提高检测结果的准确性”,可见，在说明书16段的记载中并没有限定暗室中的检测环境是无气流进入的，仅仅是检测环境稳定，并不是只有阻挡气流进入管道一种稳定检测的情况，其至少包括两种情况，一种是检测环境稳定，气流通畅，虽然对比文件4中是排风扇吸入排出空气的设置方式，然而这种吸入排出方式通过排风扇而持续进行，提供了稳定的检测环境，另一种情况则为完全封闭，即阻挡气流进出管道”。该案件的最终走向为驳回。

在涉及上位概括或等同特征的权利要求以确定保护范围时，《专利审查指南2010》中指出：每项权利要求所确定的保护范围应当清楚。权利要求的保护范围应当根据其所用词语的含义来理解。一般情况下，权利要求中的用词应当理解为相关技术领域通常具有的含义。在特定情况下，如果说明书中指明了某词具有特定的含义，并且使用了该词的权利要求的保护范围由于说明书中对该词的说明而被限定的足够清楚，这种情况也是允许的。”根据上述规定，在撰写权利要求划定权利要求边界时，应当从权利要求书记载的通常含义以及说明书中定义的特别含义等方面进行综合考虑。

从此案件中可以看出，在权利要求撰写时，对于某些技术术语存在涉及公知含义的可能性时，为避免出现创造性问题，可进行查新检索确定是否存在相关文件。若存在，可在说明书中进行本领域的进一步定义，若不涉及，可将其扩大到所有公知含义以扩大保护范围。

2.案例二

案例二的发明名称为用于构件的颗粒大小和层附着性的光热质量控制的设备和方法，申请人为罗伯特·博世有限公司，其原始申请文件中的权利要求1为“

1. 用于构件(4,4a,4b,4c,4d,i,j,k)的质量控制的方法(18,19,20,21)，其中，通过以至少一个频率ω周期性地进行强度调制(18)的能量源(5,5c,5d)来加热(19)所述构件(4,4a,4b,4c,4d,i,j,k)，其中，以相同频率ω调制的、由所述构件(4,4a,4b,4c,4d,i,j,k)辐射出的热波(81)的振幅A和/或相位被记录(20)， 其特征在于， 根据振幅A和/或相位来评估(21)构成所述构件(4,4a,4b,4c,4d,i,j,k)的材料的颗粒大小d和/或施加在所述构件(4,4a,4b,4c,4d,i,j,k)上的功能层(42)的附着特性F”。

在初次检索中，获得了对比文件1，用于评述与“附着特性F”相关的技术方案的新颖性。

对应于该权利要求的技术方案，说明书第0006-0009段进行了说明，其内容如下“

[0006] 在本发明的范畴内已经开发出一种用于构件的质量控制的方法。在此，通过以至少一个频率ω周期性地进行强度调制的能量源加热构件。由构件辐射出的热波的以相同频率ω调制的振幅A和/或相位被记录。

[0007] 能量源例如可以加热构件，其方式是：该能量源将热量直接输送给构件。但是例如光尤其激光也可以照射到构件上并且在那里通过吸收转化为热量。在此，在构件表面上周期性温度变化的振幅与照射光的频率f有关；该振幅典型地与f-1/2成正比。构件表面上的温度的绝对值与热扩散长度、照射功率、构件的导热能力和频率f有关。对于运行参数的典型值和钢作为材料而言，在调制频率ω为1000Hz情况下典型地得出构件表面上的温度变化的振幅小于1℃。

[0008] 根据本发明，根据振幅A和/或相位来评估构成该构件的材料的颗粒大小d和/或评估施加在该构件上的功能层的附着特性F。

[0009] 颗粒大小d例如能够以长度单位来给出。施加在构件上的功能层的附着特性F例如可以作为力F来给出，需要该力，以便从构件取下该功能层。”

结合对比文件1和说明书第0006-0009段记载可以发现，对于该权利要求，说明书中仅针对其核心实现方式及原理进行描述，省略已知的现有技术，且对于核心发明点的每一个构成部分进行拆分式撰写，这种撰写方式可以提高审查员的检索难度，进而增加授权概率。

申请人在一通答复中删除了“附着特性F”相关的技术方案，并保留了“颗粒大小d”的技术方案，在后续检索中，审查员检索到对比文件5 (US5586824A)，其公开了用于测量微小的石墨纤维的热传导性的方法，并具体公开了技术方案A：热传导率的数量级与晶粒尺寸相关（参见“BACKGROUND OF THE INVENTION”部分）、以及技术方案B：金属或石墨纤维悬浮在具有高温度折射率的工作流体中，调制激光束加热纤维，在纤维中产生同步热波，其振幅或相位通过使探测激光束通过液体靠近纤维并将探测光束偏转转换成电信号，热波的理论模型用于根据激光器和纤维的物理特性计算沿纤维的点的理论热波的幅度和相移，包括估计光纤的热导率（参见摘要），热传导率可以通过振幅或相移单独确定（参见说明书第2栏31-34行），采用技术方案A和B结合的方式以评述权利要求1的创造性，并基于此进行了驳回。

申请人在复审程序中保留了原始撰写的独立权利要求1，并将从属权利要求中关于“在频率ω处于25Hz和400Hz之间的情况下测量所述材料的颗粒大小d，并且在频率ω处于600Hz和2000Hz之间的情况下测量所述功能层(42)的附着特性F”的记载加入权利要求1中以限定颗粒大小和附着特性的测量频率。

对应于该修改后权利要求的技术方案，说明书第0013段进行了说明，其内容如下“

[0013] 所述测量首要地是对材料的颗粒大小d敏感还是对功能层的附着特性 F敏感，与从加热地点发出的热波到构件中的侵入深度有关。该侵入深度与相应于能量源调制频率ω的热波频率有关。在25Hz和400Hz之间的频率 特别适合测量材料的颗粒大小，因为在该频率情况下热波很远地伸入构件中。在600Hz和2000Hz之间的频率特别适合测量功能层的附着特性F。之后，热波基本上留在构件的表面上。”

结合对比文件5和说明书第0006-0009、0013段记载，可以发现，说明书中采用了递进式的表达，对实现方式及原理进行了进一步的记载，且在将上述频率记载采用了上位式的记载方式，在加入权利要求1后其保护范围仍然较为合理。该案件的最终走向为授权。

专利法第五十九条第一款规定：“发明或者实用新型专利权的保护范围以其权利要求的内容为准，说明书和附图可以用于解释权利要求的内容。”该案在说明书中对权利要求中涉及到的相关核心点采用了拆解式说明和递进式说明的方式，且每一种说明方式仅简单提及原理及实现方式，且部分涉及内容采用了上位式的表述，在具体实施手段上由于属于公知常识而不进行具体描述，这种撰写方式可以使独立权利要求在不具备创造性而需要进一步限定时仍然可以获得合理的保护范围。

四．结语

综上，权利要求撰写时可采用上位概括方式，同时注意技术术语是否具有公知含义，必要时进行检索以明晰技术术语的含义范围，在说明书撰写时关注于核心点的表达，并采用递进式和/或拆分式表达形式，以充分扩展各构成部分在技术问题的解决上所起的作用，从而合理确定权利保护范围，提高专利撰写质量。

参考文献：

[1]中华人民共和国国家知识产权局，《专利审查指南》[M],北京：知识产权出版社，2010:170-174,178-179.