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  • 简介:1、什么是电热供暖系统低温辐射电热供暖系统又称“嵌入式供暖系统“,简称电热,是世界上先进的供暖方式之一,它是一种以电力为能源,通过红外线辐射进行传热的新型供暖方式。低温辐射电热供暖系统的主体是电热,它是一种通电能发热的半透明聚酯薄膜。由可导电的特制油墨、金属载流条经印刷、热压在两层绝缘聚酯薄膜间制成的一种特殊的加热元件。

  • 标签: 供暖新 新通途 电热膜绿色
  • 简介:将水除尘器供水方式由外水环管改为内供喷嘴形式,避免了水除尘器进水口缝隙堵塞的问题。提高了污水的重复利用率,达到节约用水的目的。

  • 标签: 水膜除尘器 沉淀水 环形管 喷嘴
  • 简介:新建三聚氰胺系统的循环水系统因在制造,加工,储放运输,安装等一系列过程中混入或产生的氧化皮,焊渣,油污,沙石,泥土和保温材料等各类杂质及腐蚀产物,为循环冷却水的正常投运创造必要的条件,同时也使循环水系统在开车能够迅速达到设计要求并保证系统的正常稳定长周期的运行,而对循环水系统进行系统化学清洗和预

  • 标签: 循环水 化学清洗 预膜 三聚氰胺车间
  • 简介:<正>Berkeley实验室的研究人员在Si衬底上采用氮化铪(H_fN)中间层生长出优良结构和光学质量的GaN。这些研究人员还建立了在Si上淀积H_fN和在H_fN上淀积GaN的工艺参数。用Si衬底而不用蓝宝石衬底来生长GaN提供了很大的成本优势,并提供了GaN基器件与常规Si电子器件单片集成的可能性。

  • 标签: GAN 氮化铪 淀积 BERKELEY 光学质量 工艺参数
  • 简介:  1前言  对于MOS晶体管的栅氧化来说,按照高集成化、高性能化的比例要求,在采用0.35μm工艺技术的64MDRAM中,要求薄膜减薄到10nm,而在0.25μm的256MDRAM中则要减薄到8nm.对于高性能CMOS逻辑电路来说,在薄膜化方面的要求比DRAM还要早一个时代,对于0.25μm工艺来说,则要求使用6nm这样极薄的氧化.  ……

  • 标签: 形成技术 时代栅 栅氧化
  • 简介:本文对陕西华经微电子股份有限公司ODS清洗剂替代项目的实施要点和试验技术及项目管理工作进行了总结.根据产品的特点和具体的清洗要求,制定并实施了详细的项目试验进度计划和清洗检验标准,在相关各部门技术人员的努力下,项目进展得比较顺利.现对项目实施过程中的主要思路和体会进行总结,抛砖引玉,为同行们在项目的实施工作中提供一些借鉴.

  • 标签: 厚膜电路 ODS清洗替代项目 清洗剂 项目管理
  • 简介:<正>日本产业技术综合研究所日前发布消息说,他们通过自行开发的"大容量高纯度臭氧发生装置"生产出浓度高于90%的臭氧,并成功使用这种超高浓度的气体在400摄氏度较低温环境下制造出高品质的硅氧化

  • 标签: 硅氧 臭氧发生装置 日本产业 综合研究所 低温环境 鼻高
  • 简介:介绍借助高压水驱动力的自吸空气和水的气喷射洗净机的基本构造、特征、洗净机理的同时,评价了该洗净机的洗净质量

  • 标签: 气液喷射 洗净 应用 评价
  • 简介:介绍厚混合集成电路的制造工艺,特点以及它在几种电子产品中的应用

  • 标签: 印刷 烧结 激光调阻
  • 简介:介绍化工设备在化学清洗后进行钝化处理的必要性以及相关的钝化处理技术的原理、钝化剂性能、处理工艺.并指出使用环保型的钝化剂是今后钝化工艺的发展方向

  • 标签: 化工设备 化学清洗 钝化处理 钝化剂 预膜
  • 简介:本文主要研究了polysiliconBufferedLocos(PBL)叠层腐蚀PITING的问题.

  • 标签: PBL PITTING 干法 湿法
  • 简介:目前,发达国家和垄断企业几乎占据了高科技的各个领域标准的发言权,发国家要打破这种标准垄断,必须制定自主知识产权的标准.但这面临着既有的标准秩序和现有标准所有者和管理者的阻力.因此,只有当产业存在断裂地带的时候,发国家才有标准制定的机会.

  • 标签: 后发国家 标准制定 垄断企业 所有者 机会 模式