简介:概述了含有金属纳米粒子的低温烧结型纳米导电胶及其应用,适用于形成细线化图形等.
简介:随着印制板技术的发展,高厚径比孔的需求越来越大,常规槽长的微钻无法用于该类印制板的钻孔,亟需开发高性能的特殊槽长微钻,为高厚径比孔的加工提供解决方案。论文首先给出了高厚径比微钻的开发背景以及高厚径比微钻开发的关键问题。然后阐述了高厚径比条件下如何优化微钻设计来保障包括微钻的抗断钻、孔位精度和孔壁粗糙度在内的综合性能。最后给出了直径0.3mm、槽长直径比为24的微型钻头开发实例,并且通过试验进行了验证,结合钻孔试验介绍了高厚径比孔钻削的关键技术。
简介:台积电近日正在加快28纳米以下制程布建步伐,位于中科园区的晶圆15厂第三暨第四期厂房,将同时兴建,预计2013年完工,这二座新厂,未来将成为台积电跨足20纳米制程主要生产重心。
简介:近日,惠亚Viasvstems公布了一份新的三阶段扩建计划,根据这项计划,惠亚将对其中山PCB厂房投入4000万到4500万美元,以提高其产能和技术水平。
简介:最近印制电子技术发展日益完善,这项技术在传统印制电路板行业中也展现出巨大的应用前景。本文着重介绍了应用于印制电子的银纳米材料的发展现状,从与传统PCB导线制备工艺的比较中说明打印法制备银导线及材料的优势。文中还讨论了用于印制电子的纳米银材料的制备、墨水的配制、打印工艺、应用前景。
简介:文章以印刷RFID天线作为印刷电子技术的应用实例,介绍了利用纳米导电油墨印刷RFID天线的优势、进展与发展展望。
简介:本文论述了吸水对印制线路基材性能的影响及影响机理,提出了改善基材吸水的一般原则和方法,由于纳米复合材料的阻隔性,对降低印制线路基材的吸水率有一定的借鉴意义.
简介:喷墨技术应用到PCB将是一种趋势,而该技术的核心问题是导电浆料的制备。本文采用热溶剂化学还原法,还原AgNO3制得纳米银导电浆料,并通过XRD、TEM等手段表征了其结构及形貌。实验发现:在120℃下的纳米银为球、片混合状,粒径为40nm左右,符合喷墨要求。最后经过导电浆料的制备及150℃下的烧结,测得其导电性良好,在环氧基材表面附着力强。
简介:英特尔北欧地区总经理帕特·布莱默(PatBliemer)近日表示,其14纳米制程工艺芯片已经完成设计,进入实验室测试。
简介:IBM、特许半导体制造有限公司、三星电子有限公司以及ARM公司日前宣布:他们将在高k金属栅(HKMG)技术的基础上开发一个完整的32纳米和28纳米的片上系统(SoC)设计平台。HKMG技术是由IBM领导的联合开发团队所开发的。ARM同时宣布:将利用公共平台HKMG32纳米/28纳米技术独特的特性,开发定制化的物理IP,以实现当前和未来的ARMCortex系列处理器在功耗、
简介:在近日召开的IEEE国际电子设备会议上,IBM的科学家们展示了一系列突破性的科研成果,这将会大大推动更小、更快、更强处理器芯片的研发。
简介:微电子制造加工技术水平一直制约着我国微电子技术的提高,近年来,将有一批先进的制造加工线在我国建成投产。中芯国际集成电路制造(上海)公司,就是其中之一。该公司,投产一年来进展顺利,2002年底即达到每月投片8英寸硅片3万片的产能。主流加工技术为0.18微米,并可扩展到0.13微米,包括了逻辑电路、数模混合电路、射频电路、高压电路和多种存储器电路等。本刊特约中芯国际张汝京总裁等为本刊撰写了系列文章,介绍中芯国际目前已具备的工艺手段和所达到的技术水准。其它公司的情况,本刊将陆续发表,以飨读者。
简介:11月3日,三星电子公布了第三代10纳米制程技术(10LPU)的最新细节。三星在今年10月中抢下业界头香、10纳米制程技术率先量产,这使其与台积电的先进制程竞赛如火如荼。
简介:芯片设计软件供应公司微捷码(Magma)设计自动化有限公司于近日宣布微捷码的Talus集成电路实现系统、QuartzSSTA统计分析工具、QuartzDFM(可制造性设计)、QuartzLVS以及SiliconSmartDFM能够通过中国台湾积体电路制造股份有限公司(TSMC)9.0版参考流程进行访问。
简介:主要介绍了纳米银材料的不同制备方法和表征方法,总结了不同合成条件对纳米银形貌的影响。有化学还原法、光化学还原法、银材料具有不同的光、电、磁和催化性能,出纳米银材料除了用于导电油墨的开发外,成本。电化学还原法和置换法。不同结构的纳米在PCB生产上具有极好的应用前景,特别指作为催化剂代替金属Pd能够有效降低生产成本。
简介:以二水合氯化钯为原料,PVP(聚乙烯吡咯烷酮)为分散剂,抗坏血酸(从)为还原剂,在常温下还原Pd^2+制备纳米钯。通过激光动态散射法(DSL),透射电子显微镜(TEM)和X射线衍射仪(XRD)对纳米钯进行了表征分析,结果显示,在PVP分散剂的作用下,得到的纳米钯为粒径8nm~22nm,无其他的氧化物存在。该纳米钯材料可作为化学沉铜的活化液,可以减少沉铜的工艺步骤,经过金相显微镜观测化学镀铜后的孔背光级数均达到10级,通过扫描电镜观察镀铜层表面颗粒均匀、平整。所制备的纳米钯是一种优异的化学镀铜活化剂。
简介:SpansionLLC日前宣布,Fab25工厂~公司在奥斯丁设立的主要生产基地一现在专门用于生产针对无线和其他市场的110纳米浮动门闪存产品。这是Spansion创建以来速度最快的技术升级——从开始产品开发到实现世界级的良品率。
简介:台积电目前推出其最新版本的设计参考流程10.0版,能够进一步降低芯片设计门槛、提升芯片设计精确度、并提高生产良率。此设计参考流程10.0版系台积公司开放创新平台的主要构成要素之一,并能延续其实现更先进设计方法的传统,解决28纳米工艺所面临的新设计挑战,并有多项创新以促成系统级封装设计的应用。
简介:
简介:软性铜箔基板厂亚电2月营收已明显回升,月增率逾64%,亚电表示,公司自去年以来一直维持满载水平,但为了要争取前五大软板客户,公司近期已在昆山扩产,5月份开始进行新设备设定,预计到7月时,亚电月产能可新增100万平方米,总产能由目前的80万平方米/月提升N180万平方米/月的水平。
纳米导电胶及其应用
高厚径比微型钻头开发
台积电积极布局28纳米制程
惠亚中山PCB工厂扩建
应用于印制电子的纳米银材料
纳米导电油墨及其在印刷天线中的应用
纳米材料和纳米技术在印制线路板基材中的应用前景(9)——降低PCB基材的吸水率
基于PCB喷墨技术的纳米导电银浆的研制
英特尔14纳米芯片进入实验室测试
ARM、特许、IBM及三星共推32、28纳米SOC
全球首个不到10nm的碳纳米晶体管问世
超深亚微米(VDSM)Foundry(一)——逻辑电路
三星电子公布第三代10纳米芯片细节
瞄准40纳米工艺,微捷码获得台积电参考流程认证
纳米银材料的化学制备及其在PCB中的应用
纳米钯材料的制备及其在PCB化学镀铜中的应用
Spansion的Fab25将专产110纳米浮动门闪存产品
台积电推出设计参考流程10.0版以支援28纳米工艺
您最好的合作伙伴——亚智科技专访
FCCL厂亚电新增逾倍产能7月到位