简介：瓷器表面硅质水垢的清洗周双林在出土瓷器表面，常会有各种污垢存在，影响文物的美观与研究。这些污垢有硬土、碳酸盐等，一般较易去除。但是，也会有较硬水垢的出现。这种硬质水垢，很难去除。一批出土于禹县的瓷器，水垢在瓷器表面成层附着，面积大小不一，色泽为浅白色...

简介：美国密执安州Midland的DowCorning(道·康宁)公司利用其拥有专利权的通过表面隔离性改进热塑性塑料表面性能技术，新推出500系列固体硅氧烷牌号。塑料熔化时，由于有机硅氧烷与金属间的亲合力，硅氧烷选择性地朝模具表面，因而高浓度的硅氧烷位于注塑制品表面。

简介：摘要：单晶硅应用广泛，应用的领域均涉及微小机构，这使得单晶硅的微细加工至关重要。目前，有众多对单晶硅微细磨削的研究，但缺少对单晶硅微细铣削方面的研究。因此本文基于切削三要素：主轴转速n、每齿进给量fz和切削深度ap，沿着单晶硅(100)的[100]方向加工，采用三因素四水平的正交试验，通过观察加工后单晶硅表面形貌和比较表面粗糙度数值，来研究单晶硅微细铣削表面质量，从而优化微细铣削工艺参数。实验表明：微铣刀的磨损和振动对单晶硅加工形貌影响严重，在实验所取的参数范围内，当fz=0.1(um/z)、n=10000(r/min)、ap=10(um)时，表面粗糙度数值最小，即表面质量最优。

简介：硅是推动人类文明大步前进的现代计算机技术的核心，硅也可能在未来的计算机技术等方面起到关键作用，所以硅的研究历来是国际重大研究领域。半导体表／界面是未来关键器件中复合结构的基础，Si（111）-7×7重构表面相又是半导体重构表面的代表，因此Si（111）-7×7重构表面相及其相变动力学现象的研究，一直是一个国际重大课题。

简介：

简介：摘要：本文围绕多晶硅材料表面缺陷检测技术展开深入研究。多晶硅作为光伏产业的重要原材料，其表面质量直接影响太阳能电池的转换效率。本研究系统分析了多晶硅材料表面常见缺陷类型及其形成机理，包括微裂纹、杂质沉积、表面凹坑等。针对这些缺陷特征，文章详细探讨了光学检测、电子束检测和红外检测等先进技术在多晶硅表面缺陷识别中的应用。在此基础上，设计并实现了一套多晶硅表面缺陷智能检测系统。该系统采用深度学习算法结合计算机视觉技术，实现了高精度、高效率的缺陷识别。系统核心采用YOLOv5目标检测网络，辅以图像预处理和后处理模块，有效提高了检测准确率。本研究不仅为多晶硅材料质量控制提供了有力工具，也为相关检测技术的发展提供了新的思路和方法。

简介：摘要：本文深入探讨了多晶硅材料中氧含量检测的主要方法，包括热重分析法（TGA）、红外光谱法（IR）和固态电解质法（SSE）。研究详细分析了这三种方法的原理、操作流程以及各自的优缺点。通过对比实验和数据分析，本文评估了这些方法在检测精度、灵敏度、操作便捷性和成本等方面的表现。研究发现，红外光谱法在检测精度和灵敏度方面表现优异，但对样品制备要求较高；热重分析法操作简便，成本较低，但在低浓度氧含量检测时存在一定局限性；固态电解质法具有良好的选择性，但设备成本较高。这些研究成果不仅为多晶硅材料生产和质量控制提供了重要参考，也为相关检测技术的进一步优化和创新指明了方向。

简介：摘要以七甲基三硅氧烷和甲基烯丙基聚醚、炔二醇醚为原料，通过硅氢加成反应合成了2种表面活性剂甲基烯丙基聚醚改性三硅氧烷SE－429和炔二醇醚改性三硅氧烷SE－640。考察了催化剂种类及用量、温度对反应的影响，确定了较佳的反应条件为催化剂选用烯丙基铂配合物、催化剂用量为0.02%、温度为110～120℃。研究了产物的表面张力、铺展面积、临界胶束浓度(CMC)、动态表面张力(DST)以及抗水解稳定性。结果表明，这2种三硅氧烷表面活性剂质量分数为0.1%的水溶液表面张力均小于21mN/m，储存360d后表面张力增幅分别为78.6%和28.2%，低于常规的烯丙基聚醚改性三硅氧烷SE－90(201.5%);SE－429的CMC为40.7mg·L，铺展面积与SE－90接近;SE－640水溶液不形成胶束，表面张力能更快达到平衡。两者具有优良的表面活性和抗水解稳定性。

简介：本文基于迈克尔逊干涉光路,采用硅光电池作为传感器,检测橡胶板的内部气泡尺寸.该方法在橡胶板上粘贴反射铝膜,采用抽真空或加热的方法,使橡胶板内部气泡发生膨胀,从而使干涉条纹随着表面形变发生移动.基于硅光电池对于光强变化的快速响应,示波器可采集干涉条纹的移动电压脉冲信号,从而计算出橡胶板表面微小形变尺寸.

简介：摘要本文研究表面“绿雾”缺陷外延片的成因，发现“绿雾”片与正常片对比金属杂质含量无差异，粗糙度方面“绿雾”片要更大一些。通过外延工艺试验发现衬底与外延界面不同是造成“绿雾”的原因，“绿雾”缺陷可通过衬底RAC清洗，或外延前氢气高温加热来对界面进行处理，进而消除。最终通过杜绝“绿雾”片产生，提高了外延成品率，降低了成本。

简介：摘要分析了金刚石线切割硅晶片的表面形貌和断裂性能，并在此基础上探讨金刚石线切割原理以及一些技术挑战。金刚石线切割具有表面粗糙度低，硅片厚度均匀等优点，但却存在断裂强度各项异性。与切割划痕垂直方向的力学性能很高，然而与划痕平行方向的力学性能较低，这种性能差异是由表面单方向裂纹引起的，其裂纹的产生又与切割机理密切有关。金刚石线切割属于二体磨料磨损，其切割方式通常为塑性划痕，加之有少量脆性剥落。由于切割线的柔性，以及金刚石磨粒大小、形态、及分布的差异，切割过程则会出现切割的不连续性和不稳定性，并由此引起一些较大的表面裂纹。此外，划痕沟槽局部还会出现非晶态结构。提高金刚石线切割性能应从切割线磨粒角度来考虑。

简介：硅橡胶海绵的制备主要有化学发泡成型和物理成孔剂成型两种方法，但采用物理成孔剂成型后必须除去橡胶中包含的成孔剂以制得海绵材料。成孔剂可分为易溶性无机盐以及尿素等小分子易溶有机物，采用水浸泡的方式可以将成孔剂溶析出来得到泡孔。一般来说为缩短工艺时间，简化工艺流程，可采取提高水温、加快换水频率以加快成孔剂溶析速度。

简介：目的：在牙科氧化锆陶瓷表面制备疏水性硅涂层,为提高其与树脂的粘结耐久性提供理论基础。方法：以正硅酸乙酯（tetraethoxysilane,TEOS）为硅源,甲基三甲氧基硅烷（methyltrimethoxysilane,MTMS）为改性剂,通过溶胶-凝胶法在牙科氧化锆陶瓷表面制备硅涂层。扫描电镜观察涂层形貌,X射线能谱分析仪分析涂层前后陶瓷表面结构变化,红外光谱分析疏水改性前后凝胶的化学结构。通过静态接触角测量评价瓷片润湿性的改变。结果：在牙科氧化锆陶瓷表面制得硅涂层。扫描电镜观察涂层致密平整,红外光谱分析证明改性后溶胶疏水基团的加入。硅涂层处理后的氧化锆表面硅元素明显增加。静态接触角测试表明对照组的接触角高于未改性硅涂层（P〈0.01）,而疏水改性后的硅涂层接触角明显高于对照组和未改性硅涂层组（P〈0.01）。结论：通过溶胶-凝胶法在氧化锆表面制备疏水性硅涂层,可以有效降低氧化锆陶瓷表面亲水性,有望在提高氧化锆-树脂界面抗水解能力的同时,增强粘结耐久性。

简介：光电化学刻蚀出多孔硅（PS）用含有SnCl2、SbCl3和Ce（NO3）3的乙醇溶液浸泡后，经过400℃10min热处理，表面形成Ce—Sb共掺的SnO2光透导电薄层（TOCL）。在TOCL的表面组装含有胆固醇分子的十二烷基硫醇薄膜，萃取其中的胆固醇分子后形成筛孔分子印迹电极（SHE）。该电极与不同浓度的胆固醇乙醇溶液作用后，光电化学方法袁征了分子印迹电极对胆固醇浓度响应特性。实验结果表明分子印迹电极与吸附胆固醇的浓度具有较好的关联。特别指出的是，该筛孔分子印迹电极有望在不需要掺比电极以及零偏电压条件下实现对胆固醇的检测。

简介：摘要：传统光伏面板都镀有AR膜用来提高发电量，但是在使用过程中会受到外界因素影响。灰尘和鸟粪覆盖在组件上，形成遮挡现象，直接导致组件功率输出下降，而且积尘和鸟粪长期粘附对板面具有一定的腐蚀作用。严重时会造成组件的热斑，进一步降低组件的输出功率，甚至影响组件的寿命。并且热斑效应对于组件来说是不可逆的，一旦出现没有弥补的手段，只能选择更换组件，否则会影响发电量。而人工清洗成本高，且人工质量无法保证。

简介：通过二氯二甲基硅烷和八甲基环丁硅氧胶(D4)的调聚反应(Telomerization)合成了一新型的紫外光(UV)可固化单体α，ω-二氯聚硅氧烷。该产品剥离强度很低(<0．332N／cm)，可以用作压敏胶中的剥离剂。测定了不同分散组分制成的UV可固化预聚物薄膜的表面能值γs^d，研究了γs^d值对降低粘着性的影响。

简介：本文简要介绍了聚醚改性硅氧烷类表面活性剂的结构特点，综述了该类表面活性剂的研究动态和发展情况，最后指出了这类表面活性剂的应用情况和发展前景。

简介：摘要：有机硅表面活性剂是一种重要的新型表面活性剂，由于其优异的表面活性、良好的润湿和铺展性、以及热稳定好、生理安全等特点，已在聚氨酯泡沫产品、纺织、油漆和涂料、化妆品以及农药等诸多领域获得了广泛的应用。本文对非离子、阴离子、阳离子日用化工中的研究现状进行综述,并提出有机硅表面活性剂在日用化工中应用研究的建议。

简介：[摘要] 随太阳能光伏发电产业的持续发展，晶体硅电池作为此产业当中主流产品。太阳能转换效率是光伏产品的核心指标，若想提升产品转换效率，就需要从其表面织构与其制备层面研究着手。本文主要探讨晶体硅电池表面部位光功能的织构与其制备的当前研究进展情况。

简介：