简介:摘要随着现代电子信息技术的发展,手机薄膜晶体管液晶显示器屏向大尺寸、轻薄化、高分辨率方向发展。TFT-LCD是由很多像素组成,结构复杂、制造工序繁多,如果其中有一些像素不能正常工作,就会造成局部的显示不良,如出现亮点、暗点、亮线、暗线等缺陷,这些缺陷在生产过程中不可避免,但易于观察和检测。点缺陷产生的主要原因是单体TFT薄膜晶体管的失效,线缺陷则由多个驱动电路与屏幕连接不良引起的。本文主要通过研究TFT-LCD的显示原理,亮点缺陷在LTPS低温多晶硅Array制程中的分析和改善修复,来提升生产的良率,对于提高TFT-LCD手机屏的质量具有重要意义。
简介:摘要:Touch Mura在整个TFT-LCD制作流程中非常容易发生,并且严重影响产品性能。文章主要研究了液晶量、Sub PS设计、PS段差设计及工艺参数Total pitch对Touch Mura的影响。实验结果表明液品量的增加能够补偿敲击偏移,减轻 Touch Mura 不良;Sub PS的Z字形设计由于阻挡效应能够有效减轻 Touch Mura;Main PS和Sub PS的段差越大,Touch Mura margin越小;工艺参数Total Pitch 越接近设计值,Touch Mura 风险越小。所以在设计过程中优化液晶量和Main-Sub PS段差设计及 Sub PS设计能够有效减低Touch Mura 风险,此外,生产过程中对工艺参数 Total pitch的管控也至关重要。
简介:摘要:为了适应TFT-LCD显示屏超高分辨率极细布线的趋势,降低TFT-LCD有机绝缘膜附着性带来的损失,提高产品品质,本文研究TFT-LCD有机绝缘膜附着性改善研究。实验以有机绝缘膜附着性为主,有机绝缘膜附着性的方式,结合有机绝缘膜,具有精确控制有机绝缘膜侧壁切口角度和线宽的粘附能力,以及使用有机绝缘膜的选择优于优于优于优于优于改善表面烧蚀绝缘层,减少了对仪器活性层的干腐蚀,避免氧激活层,防止腐蚀副产品污染孔表面。实验结果表明,干法辅助湿法雕刻可作为消除腐蚀过程中雕刻和残留问题的基础,使有机绝缘膜因孔隙率差而损耗减少73%以上,TFT源泄漏接触电阻降低90%左右,仪器的开态电流增加约15%。干法辅助湿法酸洗是优化应用过程、提高产品性能的一种新方法。
简介:摘要:为了适应TFT-LCD显示屏超高分辨率极细布线的趋势,降低TFT-LCD有机绝缘膜附着性带来的损失,提高产品品质,本文研究TFT-LCD有机绝缘膜附着性改善研究。实验以有机绝缘膜附着性为主,有机绝缘膜附着性的方式,结合有机绝缘膜,具有精确控制有机绝缘膜侧壁切口角度和线宽的粘附能力,以及使用有机绝缘膜的选择优于优于优于优于优于改善表面烧蚀绝缘层,减少了对仪器活性层的干腐蚀,避免氧激活层,防止腐蚀副产品污染孔表面。实验结果表明,干法辅助湿法雕刻可作为消除腐蚀过程中雕刻和残留问题的基础,使有机绝缘膜因孔隙率差而损耗减少73%以上,TFT源泄漏接触电阻降低90%左右,仪器的开态电流增加约15%。干法辅助湿法酸洗是优化应用过程、提高产品性能的一种新方法。
简介:全氟化碳是温室气体,大量排放到大气中将会严重污染环境,在薄膜晶体管液晶显示器的生产过程中需要用全氟化碳做等离子刻蚀的反应性气体和在化学气相沉积工艺中做清洗气体,为减少使用过程中全氟化碳的对外排放,国外的TFT-LCD企业作了大量的工作,特别是日本、韩国、我国的台湾地区.文章介绍了全氟化碳温室效应的计算方法、全氟化碳在TFT-LCD制造过程中的具体应用、国外为减少全氟化碳排放采取的措施,相信这些经验对处于起步阶段的我国TFT-LCD行业有很好的借鉴作用.