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  • 简介:本文分析了勘探生产技术数据管理系统(A1系统)存在的主要问题,通过对西南油气田目前勘探开发数据业务中两个典型建设案例“勘探开发成果数据采集系统”和“勘探开发项目研究环境建设”技术架构的剖析,阐述其关键技术,针对性地提出如何应用现有的IT技术解决目前西南油气田数据资源建设和数据应用中存在的瓶颈问题。

  • 标签: A1系统 勘探开发数据建设 数据应用 成果数据采集系统 项目研究环境
  • 简介:从可用性、维护性以及优化性方面探讨数据库分区机制,详细论述分区索引的内部原理,并结合工程项目中的具体实践应用,分析了分区优化技术在性能和可用性方面发挥的重要作用,对海量数据库管理、性能优化提供一种有效的解决方案。

  • 标签: 查询优化 数据库分区 本地索引 数据库管理
  • 简介:摘要船舶舾装件种类多,且琐碎,如果每个小部件安装出现偏差,会导致整体组装后偏差加大,甚至会影响其使用。所以,控制好每一部分舾装件检验结果是很必要并关键的一个步骤。本文部分舾装件为例给出具体检验要求,为船舶最后大合拢之后顺利交船奠定基础。

  • 标签: 船体舾装 精度检验 研究
  • 简介:分组增强型光传送网(P-OTN)兼具分组传送网(PTN)和光传送网(OTN)的优点,是下一代光传送网的理想选择。三次握手信令协议(3WHS)是业界最先进的分布式连接建立机制,通过3次消息过程实现网络中连接的快速建立;同时,通过额外预留网络资源,有效解决"后向阻塞"问题。在P-OTN网络中,通过采用3WHS信令协议技术,结合路径计算单元(PCE)技术,能够实现网络资源的快速智能调度。

  • 标签: 分组增强型光传送网 三次握手信令协议 路径计算单元
  • 简介:首先介绍了变CIC滤波器的原理,然后给出了降低硬件实现复杂性的等效变换方法,同时分析了该采样率转换器的转换精度及参数选取对滤波器性能的影响。最后,通过Quartus软件仿真和应用实例,验证了该方法的有效性。

  • 标签: 软件无线电 任意采样率转换 时变CIC滤波器 FPGA实现
  • 简介:摘要音乐美学同一般美学、音乐技术理论、音乐史学、音乐评论等都有密切的内在联系,而且音乐美学这门学科的发展和深化,往往离不开从上述这些领域的成果中吸取营养。中西方音乐地域、民族以及时代存在着差异,使中国音乐美学西方音乐美学之间也存在着差异。本文通过介绍中西方美学的本质以及从多个方面阐述中西方的差异对中西方美学的观点进行比较。

  • 标签: 音乐美学 老子 荀子 康德 黑格尔
  • 简介:<正>OFweek光电新闻网和OFweek电子工程网在深圳联合主办了2013电子行业年度评选活动,英飞凌科技公司产品40VOptiMOSTMT2功率晶体管荣获了技术创新奖。英飞凌科技(中国)有限公司汽车电子事业部市场总监杜曦先生出席了颁奖仪式并代表英飞凌领取了该奖。

  • 标签: 功率晶体管 OFweek2013 V OptiMOSTM T2 英飞凌
  • 简介:作为读者,您可能对本刊前几期的人物栏目印象特别深刻,因为他们代表了上世纪80年代崛起于中国南方、目前仍在我国超声波清洗设备生产领域处于领先地位的领军人物。为社会创造的财富证明了企业家们的成功,而今天我们向您介绍的这位科学家却凭借其对超声波事业的热爱,一直在倾毕生心血推

  • 标签: 中国科学院 声学研究所 林仲茂 超声波清洗设备
  • 简介:摘要近几年来,我国生产电子衡器为主的厂家已经多达数百家,主要是生产非自动衡器。以前我国在生产电子衡器的过程中主要是引进生产技术,到现在我国已经逐渐迈入了自行设计和生产电子衡器的时期,而且在生产称重显示控制器的领域中已经有了很大的突破和进展。

  • 标签: 电子衡器 计量测试技术 运用
  • 简介:UsingdoublecrystalX-raysdiffraction(DCXRD)andatomicforcemicroscopy(AFM),theresultsofGexSi1-xgrownUHV/CVDfromSi2H6andSiH4areanalyzedandcompared.Adsorbatescanmigratetotheenergy-favoringpositionduetotheslowgrowthratefromSiH4.Inthiscase,aSibufferthatisolatestheeffectofsubstrateonepilayercouldnotbegrown,whichresultsinapitpenetratingintoepilayerandbuffer.TheFWHMis0.055°inDCXRDfromSiH4.Thepresenceofdiffractionfringesisanindicationofanexcellentcrystallinequality,TheroughnessofthesurfaceisimprovedifgrownbySi2H6:however,thecrystalqualityoftheGex2Si1-xmaterialbecameworsethanthatfromSiH4duetomuchlargergrowthratefromSi2H6.ThecontentofGeisobtainedfromDCXRD,whichindicatesthegrowthratefromSi2H6islargest,thenGeH4andthatfromSiH4isleast.

  • 标签: 硅化锗 半导体材料 化学气相沉积