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直流磁控溅射Au膜微结构研究

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摘要用直流磁控溅射技术在室温下制备了厚度为108和215nmAu膜。利用常规CBD扫描模式对Au膜微结构进行分析。XRD分析表明Au膜在平行于基片表面沿〈111〉方向择优生长;薄膜的晶格常数与金粉末的晶格常数（a=4.0862F）一致,晶粒尺寸随膜厚变化不明显。

DOI lj1e013rdv/541768

作者江锡顺

机构地区不详

出处《滁州学院学报》 2007年3期

关键词组件框架模块

分类 [文化科学][高等教育学]

出版日期 2007年03月13日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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