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多靶磁控溅射镀膜设备及其特性

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摘要摘要：通过对阴极溅射靶、镀膜室以及真空系统分子泵等的设计理念进行概述，并针对某一种多靶磁控溅射镀膜设备进行了分析和研究。通过对该设备进行镀膜工艺的处理，以此来判定镀膜设备是否符合工艺要求 [1]。

DOI g4qexkk748/4682724

作者陈远毅

机构地区深圳市康盛光电科技有限公司

出处《当代电力文化》 2020年06期

关键词磁控溅射镀膜设备分子源溅射靶

分类 [电气工程][电力系统及自动化]

出版日期 2020年07月13日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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当代电力文化

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磁控溅射镀膜设备分子源溅射靶

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