简介:摘要现阶段,随着社会的发展,我国的现代化建设的发展也越来越迅速。Mg及镁合金具有低密度、高的比强度、优良的电磁屏蔽性、易于加工和回收等优点,在航空、汽车、机械设备、电子产品等领域得到广泛应用,也可作为生物植入材料。然而,镁的标准电极电位低(-2.36V),化学性质十分活泼,且镁合金表面氧化膜(MgO)的PBR值为0.81,以致氧化膜疏松多孔,对腐蚀介质阻碍性很小,使得镁合金的耐蚀性能很差。另外镁合金中的合金元素电位比镁高,在腐蚀液中容易形成原电池,诱发电偶腐蚀,镁作为阳极优先被腐蚀,且腐蚀产物疏松、多孔,保护能力差,导致镁合金的腐蚀反应持续快速进行。因此,镁合金要大规模工业应用,须开发适当的合金体系,或者进行表面处理来保护镁合金构件。目前国内外镁合金防腐蚀处理方法主要有化学转化膜、有机涂层、阳极氧化、金属膜层、气相沉积等。真空蒸镀是一种传统的物理气相沉积技术,具有沉积速率快、绕镀性好、膜层纯度高,设备简单、工艺易实现和对环境友好等优点,但蒸镀中被汽化的镀料分子或原子能量较小只有0.1~1eV,镀料粒子到达基体后以低能量态沉积,使得铝膜层结合力和致密性不佳,因此关于镁合金表面真空蒸镀防护膜层的研究报道很少。Al的电位低,与镁具有很好的兼容性,且铝本身具有很好的耐蚀性,是现在镁合金防腐蚀中应用最为广泛的膜层之一。
简介:摘要我国电力电子技术和计算机控制技术得以迅速的发展,使PLC在机械自动化发展过程中得到了更为广泛的应用,PLC具有功能性强、使用方便以及可靠性强的特点,在现代自动化设备的控制过程中具有重要地位。为了实现薄膜分切机的自动化水平的提高,需要就分切机的收卷、机械以及电气控制原理等环节上使用PLC作为薄膜分切机控制系统的核心,让控制工作得以同时发展,将主线电路得以保留,让PLC取代较为复杂的电气连线控制,并进行PLC的控制电路的相关设计工作。在一定程度上使电路得到简化,使机床发生故障的频率得以下降,让控制工作更加集中化,同时也降低了维修上的难度。在张力的检测上以及控制工作中,可以使用压力探头和张力自定控制仪所组成的闭合的回路,进而使放卷的速度得以有效的控制,是一种闭环控制的方式。与开环控制相比缺少了反馈的环节,采取闭环控制可以有效的提升分切机控制系统的精度以及稳定性能,同时也使薄膜分切机时刻处于一种稳定的张力环境中,使薄膜的质量和生产效率得以进一步的提升。
简介:摘 要:本文拟从反应气体流量、射频电源的功率、产品表面温度和产品与喷头之间的距离四个方面单因素探索每个工艺条件对产品钝化膜层质量所产生的影响,从中得出每个因素单方面最适宜生产产品的工艺参数。然后再通过正交实验,设计 4因素 5水平试样,将各个工艺参数的影响综合进行比较,从中得出最适合生产的工艺参数。在 650V高压 VDMOS功率器件的表面制备 4KÅ氮化硅钝化膜的最佳工艺参数组合为:反应气体流量比例为 38:14,射频功率为 350W,硅片表面的温度为 390℃,硅片与喷头的距离为 340mils。经过试验得出结论,供 VDMOS半导体技术工作者参考。