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26 个结果
  • 简介:目的评价上颌内、外提升术应用于上颌后牙区垂直骨量不足的种植义齿修复临床疗效.方法选择中国医科大学附属口腔医院种植中心2007年6月至2012年6月收治的上颌后牙缺失行种植义齿修复患者127例,植入种植体216颗.其中,上颌外提升术、内提升术及常规种植术的种植体数分别为40、61、115颗.于种植术后随访6~60个月,通过临床及影像学检查比较各组间种植体累计存留率、骨结合状况和种植体周围骨吸收状况.结果在随访期内,各组间种植体5年累计存留率及完成上部结构修复1年内种植体周围骨吸收差异均无统计学意义(P>0.05),且种植术后1年的骨吸收量平均每年小于0.2mm.结论上颌内、外提升术与常规种植术种植义齿修复效果无明显差异,种植体成功与否关键在于手术适应证的选择及相关手术技巧的掌握.

  • 标签: 种植义齿 上颌窦内提升 上颌窦外提升 临床疗效
  • 简介:本研究用于评价上前颌骨后部齿槽嵴高度小于5mm患者的上颌提升同期种植术的疗效,尽管这种方法基于过去的经验曾不被推荐使用。共有160个羟基磷灰石表面喷涂的种植体被植入齿槽嵴高度为3-5mm的63名患者的63个上颌中。患者在固定修复后被追踪观察2-4年。术后未发现有上颌的并发症。术后9个月暴露种植体,临床和放射学检查没有证据表明种植体周围有齿槽嵴的吸收。从植骨区取得核心骨块进行组织学检查,显示已形成了骨结合并有高度的细胞构成。在随访中患者的种植修复体都保持了稳定。这些发现表明,术前齿槽嵴高度小至3mm,利用羟基磷灰石喷涂的种植体和自生骨,采用一步式手术方法行上颌提升同期种植是可行的。

  • 标签: 齿槽嵴高度 上颌窦提升 种植术
  • 简介:目的评估不使用植骨材料的经牙槽嵴上颌提升术同期植入种植体的存留率,并分析相关影响因素.方法收集2009-2012年接受上颌内提升术不使用植骨材料同期植入Bicon(R)种植体的病例46例,共植入种植体62枚,随访12~39个月,用Buser存留标准评估种植体存留率,记录边缘骨水平变化、剩余牙槽嵴高度、上颌底提升高度、随访时间、并发症等指标,分析可能的影响因素.结果46例62枚种植体存留率98.39%,1枚种植体6个月时发现骨结合不良.术前测量剩余牙槽嵴高度范围2.83~9.83mm,术后测量底提升范围1.00~4.86mm,近、远中边缘骨水平平均变化为(-0.12±0.72)mm(t近中=-1.29,P近中=0.20),(-0.06±0.65)mm(t远中=-0.68,P远中=0.50).结论上颌内提升术不使用植骨材料同期植入种植体存留率高,种植体周牙槽骨稳定,长期效果有待进一步观察.

  • 标签: 上颌窦内提升术 无植骨材料 Bicon(R)种植体 边缘骨水平
  • 简介:目的:寻求清除病灶的同时保存上颌黏膜和骨组织功能性的手术方法,应用数字化软件辅助设计手术方案,治疗突入上颌后份的牙源性囊性病变,并评价手术方法和术后反应。方法:回顾2011年12月-2014年12月牙源性囊性病变突入上颌后份的21例患者。应用Mimics软件进行术前设计,根据病变体积和位置采用不同术式。术式1“开窗骨板复位法”适用于病变体积大,超过颧牙槽嵴,且上颌前外侧壁无明显骨质破坏者;术式2“去骨开窗法”适用于病变体积小,近颧牙槽嵴者。手术方法评价包括麻醉效果、出血情况、根据术前设计是否可顺利清除病灶以及手术时间等:术后评价包括疼痛、肿胀和骨板存活情况等。结果:15例采用开窗骨板复位法,6例采用去骨开窗法。均在20min内成功完成手术.术中出血量少,术后疼痛时间平均为3.72d;肿胀时间平均为7.67d;8例术后鼻腔渗血1-3d:1例患者术中见化脓性炎症,开窗骨板复位术后发生感染。CT复查见其余14例复位游离骨板均无明显吸收。结论:治疗牙源性上颌囊性病变时,应尽量保存腔黏膜和骨板;数字化辅助设计手术方案可以准确指导术中截骨范围:化脓性炎症者不适宜行开窗骨板复位法。

  • 标签: 牙源性上颌窦囊性病变 窦黏膜保存 数字化设计 骨板复位固定 超声骨刀
  • 简介:牙瘤是最常见的一类牙源性肿瘤。本病例展示了锥体束CT在对巨大上颌骨牙瘤进行定位,并确定其与上颌及磨牙位置关系时的优势,这对于治疗计划的制定和外科手术方式的选择有很大帮助。

  • 标签: 混合牙瘤 锥形束CT 牙源性肿瘤
  • 简介:目的利用三维有限元分析方法评估种植体根尖部与上颌底皮质骨的关系对上颌后牙区种植的生物力学影响。方法应用计算机辅助设计(computerassisteddesign,CAD)软件建立标准种植体及上颌后牙区三维有限元模型(M1~M6),皮质骨厚度均为1mm,依据牙槽骨高度不同(10~14mm),种植体根尖部与上颌底皮质骨的关系如下。M1:种植体根尖部穿通上颌底皮质骨(底皮质骨的上表面与种植体根尖部位于同一平面);M2:种植体根尖部进入底皮质骨厚度的一半;M3:种植体根尖部恰好接触底皮质骨的下表面;M4~M6:种植体根尖部分别距离底皮质骨的下表面1、2、3mm。采用129N斜向加载,分别置于即刻负载与常规负载条件下,计算其应力分布、最大vonMises应力、种植体的最大位移和共振频率。结果除M1即刻负载外,最大vonMises应力均集中于种植体颈部周围的牙槽嵴顶皮质骨表面。无论即刻负载或常规负载下,种植体根尖部进入或穿通底皮质骨时,牙槽嵴顶皮质骨的最大vonMises应力降低,底皮质骨的最大vonMises应力增加,种植体的轴向共振频率显著增加,颊舌向共振频率显著降低。即刻负载条件下,当种植体进入或穿通底皮质骨时,其最大位移尤其是根尖部的最大位移小于其他情况下的最大位移。常规负载条件下,种植体颈部与根尖部的最大位移几乎不受种植体根尖部位置的影响。结论种植体根尖部与上颌底皮质骨的相对位置关系对种植体周围组织的应力分布、种植体的最大位移以及共振频率均有一定影响。种植体根尖部进入或穿通上颌底皮质骨有利于改善应力分布,减少种植体根尖部的位移,增加种植体的稳定性,尤其在即刻负载下作用显著。

  • 标签: 牙种植体 上颌窦 有限元分析 应力分布 共振频率分析 皮质骨