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48 个结果
  • 简介:摘要:X射线衍射技术一直是合金晶体结构分析的重要工具,本论文研究了如何提升其精确性。通过优化实验条件和数据处理方法,我们成功地提高了合金晶体结构分析的准确性。首先,我们改进了X射线衍射仪器的性能,以获得更高分辨率的衍射图像。其次,我们采用先进的数据处理算法,有效减小了数据误差,提高了数据精确性。最后,我们还探讨了在不同合金体系中应用该技术的实际案例,验证了其在合金晶体结构分析中的可行性和精确性提升。本研究的结果为合金材料的研究和应用提供了更可靠的晶体结构信息。

  • 标签: X射线衍射技术 合金 晶体结构分析 精确性 数据处理方法。
  • 简介:摘要:为了探讨化工结晶过程中溶剂选择对晶体形态与纯度的影响,本文采用文献综述和理论分析方法,系统分析了不同溶剂在结晶过程中的作用机制及其对晶体特性的影响。研究发现,溶剂的溶解度、溶剂力、表面张力和挥发性等特性直接影响晶体的生长速率、外形特征和最终纯度。不同溶剂的选择性溶解性和分配系数对晶体纯度有显著影响。合理选择溶剂类型并优化工艺条件,能有效调控晶体的形态和提高纯度,为提升化工产品质量和工艺效率提供了重要的理论基础和实际指导。

  • 标签: 溶剂选择 晶体形态 晶体纯度 结晶过程 影响分析
  • 简介:【 摘 要 】 如今对于半导体材料硅的研究已经日渐成熟,硅已经是最广泛应用的一类半导体,在微电子和集成电路行业中硅占据着主导地位,通常通过掺杂杂质来改变硅的导电性 能,硅的掺杂技术已经被普遍应用并且越来越成熟,并制成各种器件。然而在应力和本征缺陷对硅的电学性质的作用却很少提及。在对半导体材料的研究和学习中可知,缺陷的电学特性对半导体也有着一定的影响,参杂原子可以提供载流子提高其导电特性,而空位等缺陷在禁带中产生深能级,因此缺陷影响着半导体的禁带宽度和载流子数目。因此缺陷对硅的导电特性起着至关重要的作用。当对硅晶体某一晶向上施加一个拉伸或压缩的应力时会对硅结构造成一定的影响,导致禁带宽度会发生变化,使其导电性能也发生变化。本文所进行的工作就是研究应力和本征缺陷双重因素作用下影响硅电学性质机理 的第一性原理的研究。利用 Materials Studio 6.0 软件来计算分别对硅的 和 晶向施加拉伸和压缩的应力其电学性质变化并绘制应力随应变曲线,并且绘制出能带图、态密度图、分波态密度图,进一步解释其应力和本征缺陷对硅导电性质机理的影响。从而寻找不依赖掺杂而只利用本征缺陷和应力来调控硅的电学性质的方法。利用应力和 本征缺陷调节硅的禁带宽度改变半导体的性能并通过能带图、分波态密度图、态密度图进行理论分析其机理。 并解释应力和本征缺陷作用下硅晶体宏观现象的微观本原,并为硅工业发展提供理论支持。

  • 标签: 应变硅技术 禁带宽度 第一性原理
  • 简介:摘要:第三代半导体设备技术,是半导体发展历程中的重要技术,也是当前技术发展的支撑。本文通过浅析第三代半导体材料,对其晶体生长方式进行分析,探究SiC晶体设备构成。结合国内外进展情况,为国内SiC晶体设备技术发展提供更科学的技术,意在国内也能研制出更加成熟的生长设备。保证第三代半导体在更多领域得到科学应用,提升半导体材料的商业价值。

  • 标签: 第三代半导体材料 SiC晶 生长设备技术
  • 简介:摘 要:偏光片是薄膜晶体管液晶显示器中重要的关键零组件。本文介绍了偏光片的工作原理和原材料特性,并对薄膜晶体管液晶显示器用偏光片的关键技术进行分析与探讨。期许能给相关人士带来参考。

  • 标签: 薄膜晶体管 液晶显示器 偏光片 关键技术
  • 简介:【摘 要】目前不少的新建(构)筑物的由于玻璃幕墙能将赋予建筑的建筑美学、建筑功能、建筑节能和建筑结构等因素有机地统一起来,从而将建筑物从不同角度呈现出不同的色调,随阳光、月色、灯光的变化给人以动态的美,同时展现建筑独特的视觉效果,幕墙又能解决建筑生命全周期中碳中和问题,这也是为什么设计师青睐玻璃幕墙的原因;但城市中大部分玻璃幕墙,大多千篇一律,对高铁火车站而言常规幕墙很难展现城市的特点以及文化特性,向海内外旅客展示城市的风采。

  • 标签: 可渐变  盐晶体  玻璃幕墙
  • 简介:摘要石英晶体谐振器对于人类的生产生活具有重要意义,随着社会进步对于谐振器的新要求,人类对于谐振器的研究也不断深入。本文将通过对对石英晶体谐振器在静态磁场和电磁场作用下的振动模式进行了分析和研究。

  • 标签: 石英晶体谐振器 震动模态 环境电磁场
  • 简介:摘要:氨基甲酸酯类农药是一类从氨基甲酸衍生出来的商业化农药,由于使用范围广,使用量巨大,在水中溶解性较强,毒性大,不容易降解,对水生生态系统和人类的健康造成了很大的危害。本文通过合成一种具有锐钛矿晶体结构的介孔材料Ce-MTiO2光催化降解几种商业化的氨基甲酸酯类农药来研究该催化剂在这类农药污染废水治理方面的作用并讨论了光照时间、农药浓度、催化剂用量和溶液体系pH值对光催化降解效率的影响。研究结果表明,该催化剂在紫外光照射下具有很好的催化活性,能将西维因、残杀威、灭多威和克百威这四种氨基甲酸酯农药快速降解,且在碱性条件下,这几种农药的降解率都是最高的,当溶液体系

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